高飽和光學(xué)變色材料研磨粉碎設(shè)備研磨分散機(jī)

高飽和光學(xué)變色材料研磨粉碎設(shè)備研磨分散機(jī)，含鈦光學(xué)變色材料粉碎型研磨分散機(jī)，含鉻光學(xué)變色材料濕法粉碎機(jī)、全介質(zhì)光學(xué)變色材料濕法研磨分散機(jī)
光學(xué)變色材料具有與觀察角度相關(guān)的顏?zhàn)兩F(xiàn)象，觀察者在不同的角度能觀察到不同的顏色，特別是在和光學(xué)變色薄膜表面的法線方向呈0度角或60度角左右觀察時(shí)，光學(xué)變色薄膜將呈現(xiàn)出明顯不同的顏色。光學(xué)變色材料由于該特性而廣泛應(yīng)用于防偽、印刷等域。然而，隨著生產(chǎn)生活當(dāng)中各方面要求的不斷提高，當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)變色材料在耐酸、耐堿、色彩等方面在諸多域已難以滿足使用需求。
然而對(duì)光學(xué)變色材料進(jìn)行熱處理，需要對(duì)光學(xué)變色材料進(jìn)行粉碎處理，以得到粉碎的光學(xué)變色材料
cmsd2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過(guò)粉碎型研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果，出料粒徑可以微納米。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
–剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
ikn 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率v= 3.14 x d（轉(zhuǎn)子直徑）x 轉(zhuǎn)速 rpm / 60
cmsd2000系列研磨分散機(jī)選型表
型號(hào)
流量
l/h
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
dn
cmsd 2000/4
300
14000
41
4
dn25/dn15
cmsd 2000/5
1000
10500
41
11
dn40/dn32
cmsd 2000/10
4000
7200
41
22
dn80/dn65
cmsd 2000/20
10000
4900
41
45
dn80/dn65
cmsd 2000/30
20000
2850
41
90
dn150/dn125
cmsd 2000/50
60000
1100
41
160
dn200/dn150
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
高飽和光學(xué)變色材料研磨粉碎設(shè)備研磨分散機(jī)，含鈦光學(xué)變色材料粉碎型研磨分散機(jī)，含鉻光學(xué)變色材料濕法粉碎機(jī)、全介質(zhì)光學(xué)變色材料濕法研磨分散機(jī)